使用等離子體清洗時(shí)應(yīng)注意的問(wèn)題

任何事物都具有兩重性，同樣在了解等離子體清洗技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，還應(yīng)了解它的不足，及使用中存在的問(wèn)題，等離子體清洗在應(yīng)用中確實(shí)存在一些制約因素，主要表現(xiàn)在一下幾點(diǎn)：

1.       不能用這種方法除去物體表面的切削粉末，這點(diǎn)在清洗金屬表面油垢時(shí)表現(xiàn)尤為明顯。

2.       實(shí)踐證明不能用它清楚很厚的油污，雖然用等離子體清洗少量附著在物體表面的油垢有很好的效果，但是對(duì)厚油垢的清除效果往往不佳，一方面用它清除油膜，必須延長(zhǎng)處理時(shí)間，使清洗的成本大大提高，另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過(guò)程中，引發(fā)油垢分子結(jié)構(gòu)中的不飽和鍵發(fā)生了聚合，偶聯(lián)等復(fù)雜反應(yīng)而形成較堅(jiān)硬的樹(shù)脂化立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)有關(guān)。一旦形成這類(lèi)樹(shù)脂膜他將很難被清除。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個(gè)微米以下的油污。

3.       在應(yīng)用過(guò)程中還發(fā)現(xiàn)不能用等離子體清洗很好除去表面粘附的指紋，而指紋是玻璃光學(xué)元件上常出現(xiàn)的一種污染物。等離子體清洗也不完全不能用于出去指紋，但這需要延長(zhǎng)處理時(shí)間，這時(shí)又不得不考慮到這是他會(huì)對(duì)基材的性能造成不良的影響。所以還需要采用其他清洗措施進(jìn)行預(yù)處理相配合。結(jié)果使清洗工藝過(guò)程復(fù)雜化。

4.       由于等離子體清洗過(guò)程需要進(jìn)行真空處理，而且一般為在線(xiàn)或批量生產(chǎn)，因此在把等離子體清洗裝置引進(jìn)生產(chǎn)線(xiàn)時(shí)，必須考慮到被清洗工件的貯存和移送的問(wèn)題，特別是當(dāng)被處理工件體積較大，數(shù)量較多更應(yīng)考慮到這個(gè)問(wèn)題。

綜上所訴可知：等離子體清洗技術(shù)適用于對(duì)物體表面的油，水及微粒等輕度油污進(jìn)行清洗，而且利于“速戰(zhàn)速?zèng)Q”的在線(xiàn)或批量清洗。

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